nm上
而比5nm尺度单位更小的3nm芯片其实可以暂时不做考虑，因为到那个级别，攻克技术难关的投入和短期内带来的收益是不成正比的，甚至其中的很多技术难点都是跟当前技术难点不同的
所以，梁博士针对将来技术的主要研发方向，就集中在7nm，5nm的开发上
因为国内的EUV光刻机太少太少了，就只有坑来的那一台，想要靠这一台完成量产，那不现实
但国内DUV光刻机的生产技术其实已经趋近成熟了，所以梁博士提出了非常天才的设想——那就是“多重曝光技术”！
这个技术设想是将一个非常密集的电路层，分解成多个密度较低的图案，然后用现有的DUV光刻机分多次进行曝光和刻蚀，最终将这些图案组合起来，形成最终所需的超密集电路
这种技术主要是自对准双重图案化，和更复杂的自对准四重图案化四重图案化可以让线宽在DUV的基础上再缩小一半以上
这个设想已经经过梁博士的仔细推演，也得到了国内学术界的认可了
接下来，他们要做的就是把这其中的复杂工艺进行整合突破，提升整体的工艺水平和良品率
而这项“多重曝光技术”的美妙之处就在于——他不仅有利于帮助国内攻克现有的7nm制程工艺，还有利于将来攻克5nm制程工艺
所以梁博士制定下了三步走的计划
其中的第一步，自然是他率领五千人的工程师团队，针对“多重曝光技术”进行攻关，努力让国内在未来三年，甚至两年内！突破7nm芯片的量产
第二步，就是国内光刻机生产厂商要尽快的！尽可能的！搞定EUV光刻机的生产制造
一旦国内能搞定这一块的内容，那么依靠“多重曝光技术”的积累，他们可以轻松突破5nm芯片制程工艺，对海外所有的半导体生产厂商造成致命性的，近乎绝望的打击！
“多重曝光技术”！
就是梁博士复仇的利刃
吕尧作为微光国际的大股东，这些信息他知道，而光是从这些信息以及微光国际的相关资源调动，吕尧就能感觉到这是何等浩大恢弘的一盘棋了
就跟骆马湖AI数据中心一样，微光国际目前看似还在吕尧和荣念晴他们的手里，但实际上，它也不在吕尧和荣念晴他们的手里
它早已变成了国运的一部分
而吕尧……
也早就是国运的一部分了
这也是王大老板这么看重吕尧的最根本的原因
王大老板这个级别的人物，所能接触到的信息是无法想象的，哪怕他知道的不如吕尧多，但光是一点风声，加上抽丝剥茧的推演和一点点猜测，就足以让他明白很多事情
这些事情不仅外人知道，吕尧自己更是心知肚明
不过对外，他是一点风声也没漏，哪怕是身边的林